汶顥SU-8、AZ系列光刻膠簡介
SU-8光刻膠
SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性；在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián)，是一種化學(xué)擴大負(fù)性膠，可以形成臺階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形；在電鍍時可以直接作為絕緣體使用。
AZ光刻膠
AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進(jìn)；廣泛應(yīng)用于全球半導(dǎo)體行業(yè)。
產(chǎn)品型號
| 光刻膠名稱 | 型號 | 勻膠厚度 |
| Merck AZ 正/負(fù)可轉(zhuǎn)換型光刻膠 | AZ 5214 | 0.5-6um |
| AZ 50XT 正膠 | AZ 50XT | 40-80um |
| AZ 9260 正膠 | AZ 9260 | 6.2-15um |
| AZ 4620 光刻膠 | AZ 4620 | 10-15um |
| MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2015 | 13-38um |
| MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2050 | 40-170um |
| MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2075 | 60-240um |
| MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2150 | 190-650um |
| MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3010 | 8-15um |
| MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3050 | 44-100um |
標(biāo)簽: 光刻膠
- 上一條光刻技術(shù)的基本原理
- 下一條水凝膠微流控芯片